退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能，熱處理是針對不同的效果而設計的。

可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉換成薄膜或將薄膜轉換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態，修復注入的損傷，移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。

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光亮退火爐為中等工業窯爐，呈長條形，車輛廠鍛冶車間車軸連續光亮退火爐原選用燃油亞高速燒嘴，首要用于火車車軸加熱鑄造后停止熱處置，是車輛廠鍛冶車間首要設備之一。
優點運用便當，習氣消費環境；爐膛內升溫矯捷且各段溫度平均；爐體大修期確保五年以上，且爐門、燒嘴等易損部件維修便當。
缺陷設備耗油量大，效率低，環境污染嚴重；由推鋼軌道等惹起的缺點多，維修艱難，影響了消費；自動化控制水平低，廢品率高，普通在12%擺布，改良措施改造后的光亮退火爐的爐溫分為三區，其間工件由推鋼機推入爐膛一區--加熱區。
有兩邊墻上下錯列安頓的四只燒嘴，軌道由耐火磚砌成的拱支承，使工件可雙面 加熱，再向前是二區和三區--恒溫區，在兩邊墻同高度錯列安頓四個燒嘴。八只燒嘴均選用低壓渦流燒嘴，一區和二區之間設有距離梁，在爐子前后頂部配有兩臺 復合式金屬換熱器。
兩邊爐墻，爐底均選用磚砌結構，爐頂用耐火纖維氈制成，選用一臺高壓風機一同供應助燃風和用于排煙的引射風，在煤氣總管，空氣總管上設有調理閥和流量孔板，在引射風總管上也設有調理閥，一同裝備了一套搶先的微機控制系統，顯現儀表以及維護設備等。