退火爐是在半導體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設計的。可以加熱晶片以激活摻雜劑，將薄膜轉換成薄膜或將薄膜轉換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態，修復注入的損傷，移動摻雜劑或將摻雜劑從一個薄膜轉移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。

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一、鋁合金退火爐
首要用于鋁合金、鋁板、均熱退火等熱處理。
鋁合金退火爐是臺車式爐體、循環體系、導流設備、加熱元件、裝料小車、爐門升降組織及電器控制體系等組成。
二、井式真空退火爐
適用于盤圓線材，鋼帶等退火。在真空狀態下加熱退火,無氮化,無脫碳.使工件退火后堅持光亮。真空井式退火爐首要由爐體、爐膽、真空泵、循環風機及電器控制體系等部位組成。
三、多管式不銹鋼絲光亮退火爐
由加熱爐、冷卻器、放卷和收組織以及電控體系組成。
首要適用于不銹鋼絲，銅絲，鐵絲等固溶處理光亮退火。 
四、井式退火爐
適用于盤圓線材，不銹鋼絲、在拉伸前退火處理，少氧化,無脫碳.使工件退火后堅持整齊。 特點：可配置多只爐罐，多工位操作，節約人力資源，進步出產效率節約能源，下降出產成本。
臺車式退火爐首要用于銅棒，鑄鋼件、汽車零部件、軋輥、鋼球、金屬結構件、焊接件正火、退火熱處理之用。臺車式退火爐首要由爐體爐門升降及密封設備、爐車、爐車傳動組織、電加熱設備、溫度控制體系等首要部分組成。不需根底安裝，放在水平地面即可運用。
五、罩式退火爐
本設備可廣泛用于有色金屬銅、鋁合金和黑色金屬、普碳鋼、硅鋼、合金鋼等卷帶、盤管、線材等退火，無氮化,無脫碳.使工件退火后堅持整齊。退火爐具有出產效率高、產品質量好、低耗能、無污染、自動操作、安全可靠等優點。   罩式爐由一個加熱罩、兩個爐座，閥架及電器控制體系等組成。
六、網帶式不銹鋼退火爐
由上料臺、加熱區、冷卻段、氨分解爐、電器控制體系等部位組成。首要適用于各種不銹鋼、銅、鐵制品在保護氣氛控制下進行接連光亮退火，固溶處理。